真空鍍膜設備離子鍍膜機與蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機相比，最大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進(jìn)行沉積。鍍膜生產(chǎn)過(guò)程中對鍍膜層厚度均勻性檢測至關(guān)重要，真空鍍薄膜可以通過(guò)透光率光密度光學(xué)性能來(lái)檢測鍍膜層厚度的均勻性，目前市場(chǎng)上林上科技有一款專(zhuān)業(yè)的在線(xiàn)涂層測厚儀可連續監控鍍薄膜在線(xiàn)生產(chǎn)的鍍膜品質(zhì)。

荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應，主要有如下幾點(diǎn)：
? ? ? ?1：膜/基結合力（附著(zhù)力）強，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，激活及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應。
? ? ? ?2：離子鍍膜機由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會(huì )遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周?chē)?。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會(huì )在電廠(chǎng)的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點(diǎn)蒸發(fā)鍍是無(wú)法達到的。
? ? ? ?3：鍍層質(zhì)量高。由于離子轟擊可提高膜的致密度，改善膜的組織結構，使得膜層的均勻度好，鍍層組織致密，針孔和氣泡少。因此，提高了膜層的質(zhì)量。
? ? ? ?4：沉積速率高，成膜速度快，可制備30um的厚膜。
? ? ? ?5：鍍膜所適用的基體材料與膜層材料均比較廣泛。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬、化合物、非金屬材料的膜層。如在鋼鐵、有色金屬、石英、陶瓷、塑料等各種材料表面鍍膜。由于等離子體的活性有利于降低化合物的合成溫度，因此離子鍍比較容易地鍍制各種吵硬化合物薄膜。
? ? ? ?由于離子鍍膜機具有上述特點(diǎn)，所以其應用范圍極為廣泛。利用離子鍍技術(shù)可以子在金屬、合金、導電材料甚至非導電材料（采用高頻偏壓）基體上進(jìn)行鍍膜。離子鍍沉積的膜層可以是金屬膜、多元合金膜、化合物膜；既可鍍單一鍍層，也可鍍復合膜層；還可以鍍梯度鍍層和納米多層鍍層。采用不同的膜材，不同的反應氣體以及不同的工藝方法和參數，可以獲得表面強化的硬質(zhì)耐磨鍍層，致密且化學(xué)性質(zhì)穩定的耐蝕鍍層，固體潤滑層，各種色澤的裝飾鍍層以及電子學(xué)、光學(xué)、能源科學(xué)等所需的特殊功能鍍層。離子鍍技術(shù)和離子鍍的鍍層產(chǎn)品已得到非常廣泛的應用。